在传统存储产品方面,10nm以下DRAM制造工艺正成为主流,并逐步向7nm工艺突破,通过“FinFET架构+TSV技术”提升密度、降低功耗。3D NAND堆叠层数突破400层后,“垂直堆叠”难度加剧,厂商转向“水平扩展+架构优化”,比如三星V-NAND的阶梯式架构、Kioxia的BiCS架构,同时引入“HKC(高K介质+金属栅)”技术,解决高层数堆叠的漏电、散热问题,制造工艺从“层数竞赛”转向“架构+工艺”双重竞争。
这番努力已初见成效。1 月 21 日,Meta CTO Andrew Bosworth 在瑞士达沃斯世界经济论坛期间正式宣布,Meta 超级智能实验室已完成首批核心 AI 模型的内部交付,表现「非常出色」。。关于这个话题,51吃瓜提供了深入分析
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